今天为大家隆重介绍我们全新升级的 GWDL-VAF系列真空气氛炉——一款集高温、高真空、智能控制于一身的高端材料处理设备，专为科研院所、高等院校及高端制造业量身定制。
首先，让我们聚焦其核心性能——温度控制。本炉采用x国导电高精度温控仪，C型热电偶（防止氧化与渗碳），实现控温精度±1℃、恒温精度±1℃，炉内温场均匀度达±2℃，真正实现无超调、无波动的高稳定性烧结环境。升温速率灵活可调，快则20℃/分钟（非线性）慢则1℃/小时，适用于精细材料的热处理。
炉膛采用10层金属反射屏（3层钨+2层钼+2层310S+3层304）隔热结构，配合高纯钨片发热体，均匀分布四周，确保热场均匀性与长期高温稳定性。炉膛尺寸为300×200×200mm，适合多种材料的小批量实验与生产。
真空系统我们选用干式真空泵+分子扩散泵组合，极限真空度可达6.67×10⁻⁴Pa，抽速快、运行稳定。系统配备正负压双显压力表、支持氩气、氢气等多种气氛。高温段（＞1600℃）可通过氩气正压保护，有效防止发热体和高温反射屏蒸发。
设备搭载西门子S7-1200 PLC + 10寸触摸屏，支持50段程序曲线自由编辑，具备实时数据记录与导出功能，操作直观、灵活可靠，并支持用户分级管理，确保操作安全与工艺保密。
炉体采用304不锈钢双层水冷结构，外壳温度长期运行≤45℃，配备5P冷水机、真空泵及全套气路控制组件，即接即用，适用于陶瓷、金属、半导体、新能源材料等多领域的高温烧结、熔融与热处理工艺。
此外，设备具备完善的正负压运行与安全保护机制，多重联锁报警，全方位保障设备与人员安全。
我司专注高温电炉研发制造近20年，拥有多项认证与专利，始终坚持以技术为驱动、以品质为根本，为全球材料研究与工业制造提供可靠的热处理解决方案。
GWDL-VAF真空气氛炉，不仅是设备，更是您科研与生产的得力伙伴。
